“陳總，這臺就是我們研發出來的浸潤式光刻機。這一臺光刻機打破了傳統的乾式光刻理論，採用溼式以水為媒介，從而讓製程大幅度的進行了提升。雖然我們目前的製程水平是在100奈米左右，但我們隨時可以進入到65奈米行例。”

“也就是說，一旦我們的浸潤式光刻機上馬，我們的技術水平將可以和asml比肩。同時，我們也能生產出目前最為頂尖的晶片。”

中心國際一處秘密研究基地，林本堅興奮的向陳宇做著介紹。

“好，很好。”

看著眼前這一臺光刻機，陳宇同樣的有些激動。

前世，國人不知道為這樣的一臺光刻機奮鬥了多久。

當然。

這倒不是說前世國人做不出光刻機。

其實光刻機技術國人是掌握的，但要做出達到全球頂尖製程的光刻機，那就不是那麼容易的事了。

截止到2021年，前世國內最為頂尖的光刻機制程僅僅只達到90奈米。

但asml已經達到5奈米，3奈米，甚至往2奈米方向進軍。

這是幾十倍的差距。

同樣也是幾代水平的差距。

真按這樣的差距進行追趕，恐怕得100年。

幸好。

早在之前陳宇就從臺積電挖腳了林本堅。

在他的溼式光刻理論的幫助之下，全球第一臺浸潤式光刻機就此誕生。

“陳總，這臺光刻機還不是我們最為先進的，在溼式光刻理論的支援之下，我們的製程在未來還可以大幅度的進行提高。目前全球最高製程水平是65奈米，這已經很難再進步了。但我們卻才剛剛開始，未來我們將進入45奈米，28奈米，20奈米，10奈米，甚至是7奈米之例……”

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