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正文 第1011節

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說歸說,鬧歸鬧,蕭白對於時代IC製造在短期內取得成績感到很欣慰,也感到很自豪。

“蕭董,說正經的,雖然我們在28nm製程取得了成功,但不代表我們就可以高枕無憂了。

現實的問題還有很多,比如像材料、裝置等領域,我們可以做到‘去M化’,但距離真正的全國產化還有相當的距離。”

笑過之後,魏建軍也談到了一個隱憂。

IC製造所要用到的材料和裝置品類繁多,可不僅僅是一個晶圓片、一臺光刻機這麼簡單。只能說晶圓片和光刻機分別是材料、裝置的代表,而不是唯一。

當今世界上在材料、裝置領域實力最強的國度,其實是R本。

R本在半導體產業鏈上游的實力非常強大,材料這塊,其全球市場份額佔比高達52%,從前端的SI晶圓、合成半導體晶圓、光刻膠等十一種材料到後端塑膠板、TAB、COF、晶片焊接材料等八種材料,日本擁有絕對的統治地位。

而在裝置領域,R本雖然沒有像材料領域那麼變態,但實力仍不容小覷。全球15家頂級半導體裝置企業,日本共有8家企業上榜,獨佔鰲頭,美歐分別只有4家和2家。

由於R本的半導體企業基本上擁有自主技術,北美技術的應用非常稀少。所以在當前的外部環境之中,還是可以合作的,也為構建‘去M化’生產線立下了汗馬功勞。

但以後呢?

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